Organometallics, Organometal, Metal organic, MOCVD, CVD, CVD precursor, Precursors, Semiconductor, Thin film, Metal thin films, Electronics, ALD, ALD precursor, Reagents, Dopant, Doping, Products, Produce, Sales, metallocene, Alkoxide, Metaldiketonate, Diketone, Deuterated compounds, Stable isotope, 有機金属、安定同位体、CVD原料開発、CVD原料製造、CVD原料販売、有機金属試作、有機金属製造販売、有機金属処理、CVDプロセス開発、依託成膜、CVDコンサルティング、有機金属蒸気圧測定、有機金属分析、不斉合成、触媒、Germanium precursor, Ge epitaxy
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【お知らせ】

ALD-Ni, ALD-Co, ALD-Ru, ALD-MoS2, 他 受託成膜やってます。

 

 

【競争的資金等の適正な取扱いについて】
気相成長株式会社は、「競争的資金等取扱規程」および「気相成長株式会社における研究活動上の不正行為の防止及び対応に関する規程」を定め、競争的資金等の適正な取扱いと不正行為への適切な対応に努めます。

競争的資金等の不正防止に関する基本方針
「研究機関における公的研究費の管理・監査のガイドライン(実施基準)」 (平成26年2月18日改正 文部科学省)に基づいて、研究活動上の不正行為の防止に努めるとともに、不正行為が生じた場合に厳正・適正に対応するため、当社では以下の規則を定め、公正な研究活動を推進します。
・競争的資金等取扱規程
・気相成長株式会社における研究活動上の不正行為の防止及び対応に関する規程
・行動規範
・研究費等不正防止計画

研究不正に関する相談・告発等窓口 E-mail:machida@kisoh-seicho.com


【新製品情報】


CVD, ALD新原料














SFCD(超臨界成膜)用原料
                                   高い密着性 (>1000mN)                              

気相成長株式会社  
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