Organometallics, Organometal, Metal organic, MOCVD, CVD, CVD precursor, Precursors, Semiconductor, Thin film, Metal thin films, Electronics, ALD, ALD precursor, Reagents, Dopant, Doping, Products, Produce, Sales, metallocene, Alkoxide, Metaldiketonate, Diketone, Deuterated compounds, Stable isotope, 有機金属、安定同位体、CVD原料開発、CVD原料製造、CVD原料販売、有機金属試作、有機金属製造販売、有機金属処理、CVDプロセス開発、CVD依託成膜、CVDコンサルティング、有機金属蒸気圧測定、有機金属分析、不斉合成、触媒、
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出願及び登録特許
 

 

2014 特許登録 トリアルキルアルミ(R3Al)の酸素除去方法 JP 5489155

2014 特許登録 LED用Cp2Mgの量産方法 JP 5522670

2015 特許登録 Low Rs Cu interconnection for TSV JP 5734540

2016 特許登録 Low Rs Co film by novel amidinate precursor JP 5916744, US, KR, CN

2017 特許登録 膜のテルル化法 JP 6210544

2018 特許登録 Fe metal film CVD, ALD JP 6452090

2019 特許登録 固体原料の安定した揮発輸送方法 JP 6529173

2019 特許登録 Na-freeアミジネート錯体の合成方法 JP 6587282

2019 特許出願 Novel liquid ALD precursor for cobalt interconnect JP, CN

2020 特許登録 Mg Metal film CVD, ALD JP 6655838, TW, KR

2020 特許登録 Low Rs Cu interconnection for TSV TW I684663

2020 特許登録 酸素、水バリア膜 ALD-Al2O3 JP 6716129

2021 特許登録 Novel liquid ALD precursor for cobalt interconnect TW I726336

2021 特許登録 Low Rs Cu interconnection for TSV KR 10-2276421

 

 

   
   
 
 
 
 
 
  
 
 
 
  
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