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会 社 概 要
社 名   気相成長株式会社

本社研究所 〒184-0012
      東京都小金井市中町2−24−16
     東京農工大学 先端産学連携研究推進センター104号室

連絡先   TEL/FAX: 042-388-7917
      携帯: 090-9342-7073(町田)
      E-mail: machida@kisoh-seicho.com

役 員   代表取締役  町田 英明    
        取締役  石川 真人
従業員数  3名(1名役員を含む)

資本金   4,500,000円

営業品目  ファインケミカルの研究開発
      ファインケミカル及び
        その関連部品・関連装置の製作・販売
      ファインケミカルに関するコンサルタント
      化学物質の製造・販売及び分析
   
主に、気相成長技術(CVD法)に関するケミカル
参  加  団  体
NPO科学知総合研究所 理事
Advanced Metallization 委員
CVD反応分科会 幹事
Cat-CVD研究会 委員
応用物理学会
保  有  資  格
毒劇物製造販売
危険物取扱者(甲)
第1種衛生管理者
高圧ガス製造保安責任者(乙種化学)
第1種衛生管理者
沿  革
'08年  7月29日 設立(東京都小金井市に本店登記) 資本金 4,000,000円
'08年10月14日 本社研究所入居(農工大・多摩小金井ベンチャーポート)
'08年10月28日 e-Rad研究機関登録
'08年12月15日 研究開発および実験開始
'09年  4月  1日 応用物理学会にて次世代半導体メモリ材料に関する発表
'09年  4月17日 大型放射光施設(Spring-8)にて次世代メモリ薄膜の分析
'09年  6月  4日 電子情報通信学会講演「新しい原料、新材料の可能性」
'09年  6月26日 薄膜太陽電池関連特許出願 特願2009-151732
'09年  9月28日 資本金 4,250,000円
'09年10月19日 ADMETA2009 次世代半導体メモリ材料に関する発表
'10年  1月15日 資本金 4,500,000円
'10年  7月26日   NEDO太陽電池開発の委託先に採択
'10年  7月29日   文科省科研費研究機関指定 22文科振第242号
'11年  4月  1日 エネルギー輸送方法の基礎研究開始(科研費)
'11年12月  1日 CVD専用実験室及びCVD装置増設
'13年  3月27日 応用物理学会にてULSI関連Co材料に関する発表
'13年  5月14日 ECS Transactionsにてゲートスタック関連CVD-GeSn発表
'13年  5月31日 ものづくり試作開発支援補助金採択ーCVD装置開発
'13年10月  9日 ADMETA 2013にてゲートスタック関連CVD-GeSn発表
'14年  9月17日 応用物理学会秋季大会において企業展示
'14年10月22日 ADMETAにおいて企業展示
'15年  9月13日 応用物理学会秋季大会において企業展示、以降継続
'17年  11月1日 事務所・研究所を東京農工大学 先端産学連携研究推進センターに移設
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