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社 名 気相成長株式会社
本店 〒184-0011
東京都小金井市東町4-26-20
共同研究実験室 〒184-0012 小金井市中町2-24-16 東京農工大学 URAC104号室
連絡先 TEL: 042-401-1783
E-mail: machida@kisoh-seicho.com
役 員 代表取締役 町田 英明
取締役 石川 真人
従業員数 ３名
資本金 ４,５００,０００円
営業品目 ファインケミカルの研究開発
ファインケミカル及び
その関連部品・関連装置の製作・販売
ファインケミカルに関するコンサルタント
化学物質の製造・販売及び分析
主に、気相成長技術（CVD・ ALD）に関するケミカル
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NPO科学知総合研究所 理事長
CVD反応分科会 幹事
Cat-CVD研究会 委員
応用物理学会
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危険物取扱者（甲）
第１種衛生管理者
高圧ガス製造保安責任者（乙種化学）
公害防止管理者（水質１種、大気２種）
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'08年 7月29日 設立(東京都小金井市に本店登記） 資本金 4,000,000円
'08年10月14日 本社研究所入居（農工大・多摩小金井ベンチャーポート）
'08年10月28日 e-Rad研究機関登録
'08年12月15日 研究開発および実験開始
'09年 4月 1日 応用物理学会にて次世代半導体メモリ材料に関する発表
'09年 4月17日 大型放射光施設（Spring-8）にて次世代メモリ薄膜の分析
'09年 6月 4日 電子情報通信学会講演「新しい原料、新材料の可能性」
'09年 6月26日 薄膜太陽電池関連特許出願 特願2009-151732
'09年 9月28日 資本金 4,250,000円
'09年10月19日 ADMETA2009 次世代半導体メモリ材料に関する発表
'10年 1月15日 資本金 4,500,000円
'10年 7月26日 NEDO太陽電池開発の委託先に採択
'11年 4月 1日 エネルギー輸送方法の基礎研究開始（科研費）
'11年12月 1日 CVD専用実験室及びCVD装置増設
'13年 3月27日 応用物理学会にてULSI関連Co材料に関する発表
'13年 5月14日 ECS Transactionsにてゲートスタック関連CVD-GeSn発表
'13年 5月31日 ものづくり試作開発支援補助金採択ーCVD装置開発
'13年10月 9日 ADMETA 2013にてゲートスタック関連CVD-GeSn発表
'14年 9月17日 応用物理学会秋季大会において企業展示 以降継続
'14年10月22日 ADMETAにおいて企業展示 以降継続
'22年 10月 2022 ADMETA plusにおいて発表 "Novel Liquid Cobalt Precursor for Metal ALD"
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