setsuritsu_50%.png
このサイト内すべてのデータ・文章の無断転載を堅く禁じます。 Copyright © 2010 Gas-Phase Growth
HOME           PRODUCTS
会 社 概 要
社 名   気相成長株式会社

本社 〒184-0011
      東京都小金井市東町4−26−20
    

連絡先   TEL/FAX: 042-401-1783
      携帯: 090-9342-7073(町田)
      E-mail: machida@kisoh-seicho.com

役 員   代表取締役  町田 英明    
        取締役  石川 真人
従業員数  3名(1名役員を含む)

資本金   4,500,000円

営業品目  ファインケミカルの研究開発
      ファインケミカル及び
        その関連部品・関連装置の製作・販売
      ファインケミカルに関するコンサルタント
      化学物質の製造・販売及び分析
   
主に、気相成長技術(CVD法)に関するケミカル
参  加  団  体
NPO科学知総合研究所 理事
Advanced Metallization 委員
CVD反応分科会 幹事
Cat-CVD研究会 委員
応用物理学会
保  有  資  格
毒劇物製造販売
危険物取扱者(甲)
第1種衛生管理者
高圧ガス製造保安責任者(乙種化学)
第1種衛生管理者
沿  革
'08年  7月29日 設立(東京都小金井市に本店登記) 資本金 4,000,000円
'08年10月14日 本社研究所入居(農工大・多摩小金井ベンチャーポート)
'08年10月28日 e-Rad研究機関登録
'08年12月15日 研究開発および実験開始
'09年  4月  1日 応用物理学会にて次世代半導体メモリ材料に関する発表
'09年  4月17日 大型放射光施設(Spring-8)にて次世代メモリ薄膜の分析
'09年  6月  4日 電子情報通信学会講演「新しい原料、新材料の可能性」
'09年  6月26日 薄膜太陽電池関連特許出願 特願2009-151732
'09年  9月28日 資本金 4,250,000円
'09年10月19日 ADMETA2009 次世代半導体メモリ材料に関する発表
'10年  1月15日 資本金 4,500,000円
'10年  7月26日   NEDO太陽電池開発の委託先に採択
'11年  4月  1日 エネルギー輸送方法の基礎研究開始(科研費)
'11年12月  1日 CVD専用実験室及びCVD装置増設
'13年  3月27日 応用物理学会にてULSI関連Co材料に関する発表
'13年  5月14日 ECS Transactionsにてゲートスタック関連CVD-GeSn発表
'13年  5月31日 ものづくり試作開発支援補助金採択ーCVD装置開発
'13年10月  9日 ADMETA 2013にてゲートスタック関連CVD-GeSn発表
'14年  9月17日 応用物理学会秋季大会において企業展示
'14年10月22日 ADMETAにおいて企業展示
'15年  9月13日 応用物理学会秋季大会において企業展示、以降継続
 
GPG_Lucida1.png