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会 社 概 要
社 名   気相成長株式会社

 本店              〒184-0011
                  東京都小金井市東町4-26-20

共同研究実験室      〒184-0012  小金井市中町2-24-16          東京農工大学 URAC104号室    

連絡先   TEL: 042-388-7917
      E-mail: machida@kisoh-seicho.com

役 員   代表取締役  町田 英明    
        取締役  石川 真人

従業員数  3名

資本金   4,500,000円

営業品目  ファインケミカルの研究開発
      ファインケミカル及び
        その関連部品・関連装置の製作・販売
      ファインケミカルに関するコンサルタント
      化学物質の製造・販売及び分析
   
主に、気相成長技術(CVD・ ALD)に関するケミカル
参  加  団  体
応用物理学会
保  有  資  格
毒劇物製造販売
危険物取扱者(甲)
第1種衛生管理者
高圧ガス製造保安責任者(乙種化学)
公害防止管理者(水質1種、大気2種) 
沿  革
'08年  7月29日 設立(東京都小金井市に本店登記) 資本金 4,000,000円
'08年10月14日 本社研究所入居(農工大・多摩小金井ベンチャーポート)
'08年10月28日 e-Rad研究機関登録
'08年12月15日 研究開発および実験開始
'09年  4月  1日 応用物理学会にて次世代半導体メモリ材料に関する発表
'09年  4月17日 大型放射光施設(Spring-8)にて次世代メモリ薄膜の分析
'09年  6月  4日 電子情報通信学会講演「新しい原料、新材料の可能性」
'09年  6月26日 薄膜太陽電池関連特許出願 特願2009-151732
'09年  9月28日 資本金 4,250,000円
'09年10月19日 ADMETA2009 次世代半導体メモリ材料に関する発表
'10年  1月15日 資本金 4,500,000円
'10年  7月26日   NEDO太陽電池開発の委託先に採択
'11年  4月  1日 エネルギー輸送方法の基礎研究開始(科研費)
'11年12月  1日 CVD専用実験室及びCVD装置増設
'13年  3月27日 応用物理学会にてULSI関連Co材料に関する発表
'13年  5月14日 ECS Transactionsにてゲートスタック関連CVD-GeSn発表
'13年  5月31日 ものづくり試作開発支援補助金採択ーCVD装置開発
'13年10月  9日 ADMETA 2013にてゲートスタック関連CVD-GeSn発表
'14年  9月17日 応用物理学会秋季大会において企業展示 以降継続
'14年10月22日 ADMETAにおいて企業展示 以降継続
'19年  9月19日 応用物理学会秋季大会において発表「コバルト配線用液体ALD原料」
     
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