Organometallics, Organometal, Metal organic, MOCVD, CVD, CVD precursor, Precursors, Semiconductor, Thin film, Metal thin films, Electronics, ALD, ALD precursor, Reagents, Dopant, Doping, Products, Produce, Sales, metallocene, Alkoxide, Metaldiketonate, Diketone, Deuterated compounds, Stable isotope, 有機金属、安定同位体、CVD原料開発、CVD原料製造、CVD原料販売、有機金属試作、有機金属製造販売、有機金属処理、CVDプロセス開発、CVD依託成膜、CVDコンサルティング、有機金属蒸気圧測定、有機金属分析、不斉合成、触媒、
Please contact following e-mail when quotations,
orders, and physical properties are necessary.
E-mail: machida@kisoh-seicho.com
Diethyldisulfide                                   (C2H5)2S2
Diethylsulfide                                     (C2H5)2S  
Diisopropylsulfide                               (i-C3H7)2S          
Ditertiarybutylsulfide                          [(CH3)3C]2S      
Ditertiarybutylsulfide                          [(CH3)3C]2S   Bp 200  More details
    CAS No. 12012-89-3                                                                           NEW      Sulfurization reagent for MoS2 thin film
                                                               lit.: Japanese Journal of Applied Physics 55 (2016) 04EJ07
                                                                                                           

HOME         PRODUCTS
このサイト内すべてのデータ・文章の無断転載を堅く禁じます。 Copyright © 2010 Gas-Phase Growth
GPG_Lucida1.png