Organometallics, Organometal, Metal organic, MOCVD, CVD, CVD precursor, Precursors, Semiconductor, Thin film, Metal thin films, Electronics, ALD, ALD precursor, Reagents, Dopant, Doping, Products, Produce, Sales, metallocene, Alkoxide, Metaldiketonate, Diketone, Deuterated compounds, Stable isotope, 有機金属、安定同位体、CVD原料開発、CVD原料製造、CVD原料販売、有機金属試作、有機金属製造販売、有機金属処理、CVDプロセス開発、依託成膜、CVDコンサルティング、有機金属蒸気圧測定、有機金属分析、不斉合成、触媒、Germanium precursor, Ge epitaxy
kisoh-seicho.png
                                                                      *特許のページが新設されました。
    

【お知らせ】
2017年11月1日に隣の建物、先端産学連携研究推進センター104号室に移動しました。
登記本店住所は変わりません。--------
-------------------

【新製品情報】
CVD, ALD新原料














SFCD(超臨界成膜)用原料
                                   高い密着性 (>1000mN)                              

気相成長株式会社  
Gas-Phase Growth LTD. [ GPG LTD ]
このサイト内すべてのデータ・文章の無断転載を堅く禁じます。 
Copyright© 2010 Gas-Phase Growth LTD. All Rights Reserved
サイト管理者・お問い合わせ・e-mail:machida@kisoh-seicho.com
GPG_Lucida1.png
English Site